聚合工学院研究

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使用溶剂蒸发退火

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发布日期

秋天2012

抽象性

有序模拟(2-50nm)碳薄膜编译使用协同编译单片并配新块聚合模版(poly-syrene-block-N,N-二甲基-n-ocdecylan p-syrenesfonate,PS-b-PSS-DMOD)合成可逆加分链转移聚合PS段高Tg和penlipse树脂与PSS-DMOD之间的强交互作用使分片重排列相对于penlic树脂交叉连接率有运动阻塞,阻抗长程排序并产生偏差误序碳并分布广孔度相对短的受控蒸气压甲基乙酮可显著改善长距离排序并缩小孔尺寸分布平均孔尺寸随溶剂蒸发增加而增加,但上限p/p0=0.85并存使用misityl氧化物可扩展该方法,该方法与MEK相似溶质性能,但在溶剂退火后环境空气干燥不容易去除剩余溶剂可影响阵列交叉连接期间所开发的形态学分析结果显示,通过简单修改处理过程对定序微博片结构进行微调的能力,初始片不作任何构件修改

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