聚合工学院研究
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新类硅重新编码
文档类型
条形图
发布日期
2007年秋季
抽象性
开发出新类硅胶涂层或涂层添加剂循环硅单片机编译并反射为更容易处理的循环寡片机循环寡头树枝向硅氧烷聚合物开放聚合物用各种组实现功能化,包括:氨基诺、甘二氧、环氧、丙烯和循环二核素设计为多种不同的治标条件:(1)环境温度-Cure(氨基和甘二氧),(2)cationic紫外线-cure(UV)-cure(环氧),(3)privateUV-cure(丙基)和(4)cure(alksilane)。尾端用法一直聚焦于硅胶涂层不过,涂层添加剂使用将是未来研究的焦点循环硅酮使用混合单凝素前缀UV循环二分片还摄取环境温度释放涂层,并应用为防污涂层固有低面能使循环硅酮优先选用表压添加
卷积
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推荐引用
Soucek,Mark,“新级硅反射编码”(2007年)。聚合工学院研究.1886年
https://ideaexchange.www.jamsic.com/polymerengin_ideas/1886
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