聚合科学学院研究

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CF4/CF3BR二元混合吸附

文档类型

条形图

发布日期

秋季2011

抽象性

分子动态多层吸附两种四代卤化乙烷二分制模数(CF(4)和CF(3)BR)对三种大宗组成(40%、50%和60%CF(4))和80至200K不等温度模拟的目的是深入调查这些因素如何影响电影结构、图层组成、横向排列和分子取向与先前研究单成分吸附这些表层时一致,浮附于SiO(2)表层的混合物显示稳定数密度剖面基本不取决于温度,最高达160K石墨吸附基本没有这种稳定度,它显示密度和表层群除系统温度外还主要依赖总体膜组成、分子取向和吸附基交互相形之下第一个吸附层的构成似乎受基底选择的影响,CF(3)BR在所有组成物和温度均以图状面为主组成物和温度,而HixyldsorbedSiO(2)的第一个吸附层则更清晰地反射160K下温度下总体膜组成物

卷积

115

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